技术编号：12533528
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及曝光机上用的一种紫外LED曝光模组。背景技术曝光机是通过照明系统将掩模上的图形转移到掩模下方的菲林上，然后通过腐蚀或者刻蚀，将菲林上的图形转移到基片上，完成产品的制作。现有技术中的散射光曝光机主要应用于PCB线路板制造，目前使用的散射光曝光机的曝光模组多采用汞灯作为光源，但汞灯曝光机产生的光谱较复杂，包含的谱线较多，并且还有大量的红外辐射，效率非常低。此外，汞灯的寿命非常短，一般只有2000小时，而大功率的汞灯价格都在几万元人民币，导致生产成本很高，并且存在一定炸灯风险，汞灯曝光机...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。