技术编号：12545768
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于环境材料制备技术领域，具体涉及一种嵌入式中空磁性印迹光催化纳米反应器及其制备方法。背景技术普通光催化纳米反应器不能从众多污染物中选择性去除特定目标物，而表面印迹技术可以赋予普通光催化纳米反应器选择性去除能力，但由于表面印迹层会覆盖无机半导体的光催化活性位点，导致其降解率大大降低，因此，本发明采用有机印迹技术，有机印迹光催化体系是将无光催化活性的物质当作载体材料，表面直接覆盖有机印迹层，同时将有机光催化活性物质引入到有机印迹层中，并暴露于印迹孔穴内部，从而使被选择性识别进印迹孔穴的目标物...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。