技术编号:12549129
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种X射线成像探测器,尤其涉及一种耐辐射和高热负载的X射线成像探测器。背景技术在同步辐射成像光束线上,通常使用的X射线成像探测器包括闪烁体,耦合系统以及可见光二维面阵探测器,其中耦合系统可以分为两类,一类是由光纤直接耦合到二维面阵探测器上,另一类通过透射式显微物镜和投影物镜耦合到二维面阵探测器上。前一类的空间分辨率通常较差,适用于对较大物体的低分辨成像,不适用X射线显微成像,后一类是同步辐射显微成像比较常用的方式,但在实际使用过程中,由于同步辐射光通量密度非常高,而透射式显微物镜所使用...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。