技术编号：12563393
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩膜板吸附装置、光掩膜装置及曝光设备。背景技术如图1所示，为目前真空吸附掩膜装置的结构示意图，其中，包括平行设置的透明基板01和掩膜板02，透明基板01和掩膜板02之间可通过抽真空等方法形成负压环境。一定光强的光线垂直射入透明基板01后，再次垂直入射至掩膜板02，掩膜板02上排布有掩膜图案(透光部分)，光线经过掩膜板02之后，可使光刻胶03中与掩膜图案对应的部分被曝光，最终经过显影后形成光刻胶图案。但是，随着显示技术的发展，制作阵列基板或彩膜基板时使用的母...
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