技术编号:12571952
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种光罩的清洗技术,具体而言涉及一种可以擦拭方式清洗光罩表面的光罩清洗装置,以能快速、且有效的清理光罩表面,供提升半导体制程的合格率。背景技术按,在半导体的制程中,微影(Photolithography)与蚀刻制程(EtchingProcess)是用来完成晶圆表面的图案制作,其中用以供微影制程使用的光罩(Mask)具有不可或缺的关键地位。光罩系一绘有特定图案的透光玻璃片,其中包含一具图形(Pattern)的图案区,供利用一光源,将图案区上的图形转移至晶圆上的光阻,再经过蚀刻制程于晶圆表...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。