技术编号：12578746
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及真空镀膜领域，特别是涉及镀膜前基片的清洗方法。背景技术真空镀膜技术是近几十年发展起来的一种重要的表面强化技术，在薄膜太阳能电池芯片制造、建筑用低辐射玻璃、阳光控制膜玻璃，以及在机械加工领域的涂层工模具上被广泛使用。真空镀膜技术具有用料少，强化效果好的优点，以硬质合金表面镀制TiAlN薄膜为例，没有镀制TiAlN薄膜前，其硬度仅1500HV左右，抗氧化温度低于600℃，而镀TiAlN薄膜后的硬质合金硬度达2500HV以上，抗氧化温度高达800℃。但是影响真空镀膜效果的一个重要因素是薄膜与...
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