技术编号:12598946
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。基板处理装置及方法背景技术本文公开的本发明涉及用液体处理基板的装置和方法。在半导体器件的制造工艺中会进行各种工艺,例如光刻、沉积、灰化、蚀刻和离子注入等。此外,在上述工艺之前和之后进行用于清洁残留在基板中的颗粒的清洁工艺。通过将清洁液供给到由旋转头支撑的基板的两侧来进行清洁工艺。通过位于旋转头和基板之间的喷嘴构件采用清洁工艺来处理基板底部。参考图1和图2,喷嘴组件4包括多个喷嘴构件6和本体8。多个喷嘴6与本体8联接并且包括朝上的出口。每个喷嘴彼此相邻地设置,以将液体排出到基板W的中心。从喷嘴排出...
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