技术编号:12621747
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种连续进给大豆抛光装置。背景技术目前在农业生产中,大豆收获后会有许多诸如秸秆渣等杂质混入粮食中,并且粮食表面的污垢很多,看起来粮食非常污浊暗淡,会让购买者认为大豆质量不好,进而不再购买此处大豆,造成农民大豆卖不上好价钱甚至售卖不出的情况,因此大豆产品在上市前均需要作抛光处理,使大豆表面更光滑,外观更佳。现有的豆类抛光机,只是对豆类表面进行很浅的研磨,大多数抛光机只能去除豆类表面的泥土、硬化角质和灰尘,并且研磨出来的角质和杂质与豆类混合在一起,不易分离,在对大豆抛光后会造成很多大豆...
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