技术编号：12633339
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种取料装置，尤其涉及一种芯片光刻机的光刻版取料装置。背景技术在集成电路芯片的生产过程中，芯片的设计图形在硅片表面光刻胶上的曝光转印(光刻)是其中最重要的工序之一，该工序所用的设备称为光刻机(曝光机)。光刻机是集成电路加工过程中最关键的设备。而光刻版的取料装置包括底座和固定于底座上的两个插板，插板上设置有负压抽吸口，插板位于光刻版的下方，插板将光刻版负压吸附稳当后水平移动到光刻版吸附底座的上方，然后取料装置下降将光刻版防止在光刻版吸附底座上，然后取料装置的插板水平移出。光刻版吸附底...
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