技术编号:12648376
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及器件的制造方法及有机EL器件,尤其涉及制造过程的曝光时的光掩模的配置方式。背景技术作为器件的有机EL器件例如经过如下工序形成:(a)在基板上形成TFT层;(b)在TFT层上层叠层间绝缘膜;(c)在层间绝缘膜上层叠平坦化膜;(d)在平坦化膜上形成阳极;(e)形成划分相邻发光部之间的堤;(f)在通过形成堤而构成的凹部内形成包括有机发光层的功能层;(g)在多个功能层上相连地形成阴极;(h)形成覆盖阴极的封止膜。在此,在以有机EL器件为代表的器件的制造中,包括很多对感光性膜进行曝光、显影的工序...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
该类技术注重原理思路,无完整电路图,适合研究学习。