技术编号：12654412
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种烧成气氛可控的陶瓷烧制窑炉，属于陶瓷烧制技术领域。背景技术目前高温工艺陶瓷的烧成温度多在1200℃到1350℃区间，根据不同陶瓷的烧成需求需要对陶瓷烧成的气氛进行控制，如现有大部分还原气氛烧成瓷器需要在980℃到1020℃间完成从氧化气氛到还原气氛的转换(注：烧成气氛的性质是由窑炉内的燃料产物中所含的游离氧与还原成分的百分比决定的。一般可以将烧成气氛分为氧化气氛和还原气氛两种。游离氧含量在8％～10％称为强氧化气氛，游离氧含量在4％～5％的称为一般氧化气氛,游离氧含量1％～1.5％...
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