技术编号：12660964
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及液晶显示面板制程领域，尤其涉及液晶显示面板制程中使用的一种掩膜及包含该掩膜的设备。背景技术液晶显示面板制程主要包括涂布、曝光、显影、刻蚀、剥离过程，所谓曝光，就是将掩膜上描绘的控制液晶分子所需要的电路图形及显示图像用的像素图形等转写在玻璃基板上。在这一过程中，掩膜起着至关重要的作用，因此掩膜的种类和工艺对液晶显示面板的制程产生了很大的影响。用选定的图像、图形或物体，对处理的图像(全部或局部)进行遮挡，来控制图像处理的区域或处理过程，用于覆盖的特定图像或物体称为掩膜或模板。光学图像处理中...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。