技术编号:12686603
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及氧化铟锡复合粉体制备技术领域,特别涉及一种以共沉淀法制备氧化铟锡复合粉体的方法。背景技术ITO粉末是制备ITO溅射镀膜靶材的原料,欲得到高品质、高密度的ITO溅射靶材,则需要组成均匀的超纯超细高烧结性的ITO粉末。一般来说,对ITO粉末具体要求是:颗粒尺寸小于100nm,比表面积大于15m2/g,并且颗粒形貌呈球状,粒径分布范围窄,硬团聚少。目前各国文献中所报道的ITO粉体的制备方法主要有目前制备ITO粉末方法有:均相共沉淀法,水溶液共沉淀法,电解法,溶胶-凝胶法,喷雾燃烧法,喷雾热分...
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