技术编号:12692692
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及高分子材料制备领域,尤其涉及一种超高冲击耐热抗静电再生HIPS改性材料及其制备方法。背景技术聚苯乙烯(Polystyrene,缩写PS)由于其良好的透光性,被广泛应用于光学工业中,可制造光学玻璃、光学仪器,、透明或颜色鲜艳的器具,如灯罩、照明器具等。其还可制作电气元器件和仪表等。单独使用PS作制品,脆性大,而在PS中加入少量其他物质,如丁二烯即可明显降低脆性,提高冲击韧性,这种塑料叫抗冲击PS,称为HIPS,它的力学性能大为提高,可用此塑料制作出许多性能优良的机械零件和构件。随着家电报...
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