技术编号：1269794
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种成像设备的自动曝光控制方法及装置。本发明采用了两次曝光过程，并对预曝光图像进行处理，对受检部位组织区域的图像灰度值进行统计，将灰度均值与推荐值的比值作为计算二次曝光参数（mA值或者曝光时间值）的主要依据，同时利用灰度最大值和最小值对调整后的图像灰度范围进行限定，确保二次曝光能够获得较高质量的图像，同时能够降低受检者所受的X射线辐射。而且本发明采取了比信噪比更直接的图像灰度值统计量进行曝光参数估计，对于各种图像均可以获得较好的处理结果，提高了...
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