技术编号：12749613
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体行业晶片湿法处理领域中夹持固定掩膜板的装置，具体地说是一种掩膜板夹持机构。背景技术在半导体晶圆的生产过程中，曝光工艺是影响后续所有工艺过程的重要一步。曝光使用的掩膜板是该工艺中的核心部件，是将图形转移到晶圆上的载体。在曝光过程中，掩膜板会经常沾染晶圆表面的光刻胶和环境中的浮尘，这些对于曝光效果非常不利，因此要对掩膜板的正反两面进行清洗；这就使得掩膜板无法使用真空吸附方式，而只能使用夹持的方式进行清洗。传统的掩膜板夹持机构只限定了掩膜板周向和径向的自由度，而对于轴向的自由度约束不够...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。