技术编号：12769541
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其是一种实现离子源均匀照射镀膜基片的屏蔽罩。背景技术在真空镀膜领域，离子辅助镀膜的应用比较广泛。使用离子源时，如果离子源发射的荷能粒子作用于空白的镀膜基片，则可以起到清洗和活化基片的作用；如果荷能粒子作用于镀膜中的镀膜基片，则还起到辅助沉积的作用。由于荷能粒子的作用，离子源辅助镀膜的光学薄膜一般具有较好的致密度和较高的折射率。通常情况下，离子源发射荷能粒子的发射口为圆形，相应地，在离子源向外部发射的自由空间中，荷能粒子的等能量线也呈圆形分布。对于真空蒸发设备，通...
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