技术编号：12779867
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及光刻直写曝光机及投影显示技术领域，尤其是涉及一种复眼匀光系统、照明调节机构及照明装置。背景技术光刻技术是用于在基底表面上印刷具有特征构图的技术。这样的基底可用于制造半导体器件、多种集成电路、平面显示器(例如液晶显示器)、电路板、生物芯片、微机械电子芯片、光电子线路芯片等。由于市面上大多数的印刷电路板(PrintedCircuitBoard，简称PCB板)都为精密线路，普遍的解析能力达到10-20μm量级，因此激光直接成像(LaserDirectImage，简称LDI)能量的均匀性是...
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