技术编号:12783365
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光学测量领域,特别涉及到一种基于光谱干涉装置的测量方法。背景技术双折射晶体在光学波片,光延迟,激光测量等方面有重要的应用。双折射晶体的在通光方向上的厚度决定了双折射晶体的延迟量,并直接决定了基于该材料的器件的性能指标和应用范围。现有的双折射晶体厚度测量方法存在测量精度不够的技术问题。因此,本发明提出一种基于光谱干涉装置的测量系统及测量方法,通过对白光干涉光谱进行傅里叶变换运算来得到待测双折射晶体的厚度,能实现微米级厚度的测量精度。发明内容本发明所要解决的技术问题是现有技术中存在的测量精...
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