技术编号:12794487
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及镀膜领域,具体来说,是一种带材真空等离子体镀膜系统。背景技术现有的技术对连续带状或板状金属产品进行镀膜加工的真空等离子体镀膜设备,技术落后,能耗高,膜厚不均匀,产量低等缺点,加工该类产品的设备一般包括周期式真空等离子体镀膜设备和连续式真空等离子体镀膜设备两种:一、为周期式真空等离子体镀膜设备,源于其生产加工产品的方式是以少量单次装料的方式生产作为一生产周期,产品放置量比较少,尺寸较小,重量较轻,总结所得该种设备普遍存在以下缺点:1、生产效率低,每生产一炉次就要重新升温和抽真空,生产周期...
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