技术编号:12794503
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于铜表面的置换镀钯方法,属于金属表面处理技术领域。背景技术由于具有出色的化学稳定性、导电性和可焊性等特点,钯镀层已经广泛应用于铜键合丝和印刷电路板(Printedcircuitboards,PCBs)的铜电路表面,以提高铜键合丝和PCB铜电路的抗氧化性和抗腐蚀性,防止铜的氧化和腐蚀对其导电性和可焊性等性能产生影响。目前铜表面镀钯的方法主要有:电镀和化学还原镀技术。电镀钯是将待镀件与电源负极相连,溶液中的钯离子得到电子在待镀件表面析出并形成镀层的方法。但由于PCB上的铜电路呈分散分...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。