技术编号：12800217
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及评价曝光装置中的投影光学系统的像差的评价方法、曝光方法以及物品的制造方法。背景技术作为在半导体器件等的制造工序(光刻工序)中使用的一个装置，有将掩模的图案转印到基板的曝光装置。在曝光装置中，伴随近年来的电路图案的微细化，要求高精度地评价投影光学系统的像差。在专利文献1以及2中，记载了：仅根据将掩模的图案实际上转印到基板的转印结果以及使用摄像元件进行空中像测量而得到的结果中的某一方，评价投影光学系统的像差。在仅根据转印结果评价投影光学系统的像差的情况下，为了高精度地评价投影光学系统的像差...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。