技术编号：12812740
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于等离子体技术领域，涉及到一种等离子体聚合涂层装置。背景技术等离子体聚合涂层是一种重要的表面处理方法。在等离子体聚合涂层过程中，将需要处理的基材放在真空室内，在真空状态下通入工艺气体和气态有机类单体，通过放电把有机类气态单体等离子体化，使其产生各类活性种，由这些活性种之间或活性种与单体之间进行加成反应形成聚合物。在等离子体聚合涂层的工业应用中，为了尽可能提高处理批量和降低处理成本，需要尽可能增大真空室的容积以便能够同时容纳更多的基材接受处理。但是现有技术的等离子体聚合涂层装置采用方形...
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