技术编号:12816728
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于光学抛光技术领域,具体涉及一种以磁流变为基础的双面抛光装置。背景技术双面抛光在半导体晶片和蓝宝石材料光学器件等诸多方面有着广泛的应用。一般来说,这些应用都要求双面抛光后的元件具有较高的粗糙度、光洁度,较小甚至无表面和亚表面损伤,同时双面抛光装置要具有高抛光效率,低生产成本,适合流水线大规模生产,对环境无污染等。元件口径的增大也对双面抛光提出了更高要求,比如半导体硅晶片,已经要求直径达到450mm。另外,不仅仅平面需要双面抛光,很多曲面材料同样也需要双面抛光。目前双面抛光主要集中于正...
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