技术编号:12817427
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及显示器制造工艺技术领域,尤其是指一种磁控溅射装置、设备及磁控溅射方法。背景技术磁控溅射是物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition,PVD)的一种,一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多种材料,例如显示器制造中的金属薄膜沉积则正是采用磁控溅射工艺实现的其中一种实施例,采用该工艺具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。磁控溅射根据工艺上的不同包括多个种类,但通常工作原理为:利用磁场与电场交互作用,使电子在靶材表面附近成螺旋状运行,以增大电子撞击氩气...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。