技术编号：12817438
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及MOCVD设备，更具体地说是涉及一种MOCVD设备反应腔体。背景技术MOCVD设备是半导体行业的基础性设备，而我国在该领域一直依赖于进口，随着国家能源的紧缺和半导体照明工程的发展，国产MOCVD设备的研发工作重要性更加凸显。而MOCVD设备的核心部件之一是反应室的进气系统，目前主流的做法是在腔体盖上设计多个进气点，以保证进气时反应腔内的气场的均匀性，这样做缺点主要是每个进气点都设置了质量流量计，因此成本较高，且工艺调试非常复杂，可复制性差。发明内容本发明要解决的技术问题是提供一种成本低...
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