技术编号：12820465
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。挡板、等离子体处理设备、基板处理设备和处理基板方法本申请要求于2015年12月4日在韩国知识产权局提交的第10-2015-0172658号韩国专利申请的优先权和权益，该韩国专利申请的内容通过引用全部包含于此。技术领域发明构思的实施例涉及一种挡板(baffleplate)、一种使用该挡板的等离子体处理设备、一种基板处理设备和一种处理基板的方法。更具体地说，发明构思的实施例涉及一种挡板、一种等离子体处理设备以及一种通过防止或减少电弧(arc)的产生来减少颗粒污染的处理基板的方法。背景技术随着半导体装...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
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