技术编号：12823624
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光刻机设备领域，尤其涉及一种光刻机物镜冷却装置。背景技术光刻机是大规模、超大规模集成电路制造的核心设备，它包括曝光系统、工件台、掩模台、硅片传输系统、工件传输系统、微环境系统等十三个分系统。其中，曝光系统与微环境系统是保证光刻机曝光线条质量的关键系统，而光刻机投影物镜的温度控制则是关键中的关键。光刻机对投影物镜内部环境的要求极高，尤其是温度的稳定性与均匀性要求。由于长时间进行激光曝光，投影物镜内部温度会随曝光时间而变化，投影物镜内部温度的变化会造成焦面漂移，导致曝光线条畸变和像散，严重...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。