技术编号：12823627
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种光刻机同步控制系统及方法，属于半导体制造领域。背景技术光刻机是半导体制造技术的核心设备，随着半导体集成电路技术的快速发展，对光刻机的系统设计提出了更高的要求。一方面，硅片的集成度不断提高，对于线宽的要求越来越高，需要光刻机的测量和控制系统更加精准和复杂化，需要对外部分系统进行更多的扩展。另一方面，随着曝光硅片尺寸的不断增大，特别是平板显示领域，所使用的基板尺寸越来越大，对于光刻机工件台和掩模台系统的控制和测量要求越来越高，如需要支持更高配置的激光干涉仪测量系统。同步控制系统是整个光...
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