技术编号：12823629
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种运动台装置、曝光装置及光刻机，应用于半导体集成电路制造领域。背景技术光刻技术是一种将掩模图案曝光成像到基底上的工艺技术。在光刻过程中，基底放在工件台上，通过位于光刻设备内的曝光装置，将掩模图案投射到基底表面。光刻是半导体制造过程中的关键工序，光刻机用于完成半导体制造中的光刻工艺。在光刻机中，工件台用于承载硅片或基板、并携带硅片或基板在光刻机投影物镜下完成与掩模台相配合的曝光运动，因此，工件台的控制精度直接影响到光刻效果，所以需要工件台具有良好的控制精度。在工件台运动的过程中，其运动...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。