技术编号：12823639
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种曝光装置及方法，特别涉及一种用于基底边缘曝光的曝光装置及曝光方法，应用于半导体器件制造领域。背景技术光刻是一种将掩模图案曝光成像到基底上的工艺技术，是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤。曝光是光刻工艺的一个重要环节，曝光方式分为接触式、接近式、投影式和直写式。在实际中，如果基底部分视场处于基底边缘处，通常不能作为用于制作芯片的部分，这部分如果不进行曝光处理，则会引起基底边缘翘曲的问题。一般采取的办法是对边缘场进行低分辨率的、周期性图形曝光，这样可以有效地降低边缘翘曲的问题。由于没有...
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