技术编号：12833405
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及微电子技术领域，具体涉及等离子体刻蚀机，更具体地涉及等离子体刻蚀机的匀气盘。背景技术刻蚀是微细加工技术的一个重要组成部分，微电子学的快速发展推动其不断向前发展。从总体上说，刻蚀技术可分为干法刻蚀和湿法刻蚀两种，初期的刻蚀以湿法刻蚀为主，但随着器件制作进入微米、亚微米时代，湿法刻蚀难以满足越来越高的精度要求。干法刻蚀一般为通过物理和化学两个方面相结合的办法来去除被刻蚀的薄膜。常用的干法刻蚀有很多种，其工作原理主要是刻蚀气体通过电感耦合的方式辉光放电，产生活性游离基、亚稳态粒子、原子等...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。