技术编号:12855134
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种磁控溅射镀膜设备真空腔室回气导流装置。背景技术玻璃产品在进行磁控溅射镀膜工序时需要在真空环境下进行,因此在进行玻璃磁控溅射镀膜工序之前需要将真空腔室的空气抽出使真空腔形成真空状态。在对玻璃完成镀膜之后,真空腔室再进行回气动作,使得真空腔室的气压与大气压相同。为了避免回气时大气冲碎玻璃产品,如附图1所示,目前采用的技术方案是在空气进出口的下方设置一块钢板6对大气进行缓冲导流。此钢板6通过螺栓固定在凸起的固定柱7上,固定柱7固定于真空腔室的密封盖板1上。但是真空腔室的真空负压可达到...
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