技术编号:12881592
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种钼掺杂三氧化钨纳米薄膜材料的制备方法,属于纳米材料的技术领域。背景技术近年来,三氧化钨纳米薄膜材料的研究引起了越来越多的关注。三氧化钨是一种n型半导体材料,其禁带宽度较窄,能够响应可见光,并且具有与TiO2光催化剂相似的特点,即稳定、无毒、耐光蚀、成本低且价带电势高、光生空穴氧化能力强。三氧化钨薄膜具有光电催化性能和传感性能,能够用于光电催化降解有机物、分解水产氢和pH、CH4、NO2传感器等。然而三氧化钨薄膜的微观结构决定着三氧化钨薄膜的光电催化性能和传感性能以及使用寿命。现有...
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