技术编号:12888820
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明实施例涉及半导体制作技术领域,尤其涉及一种平面型VDMOS器件的制作方法。背景技术单脉冲雪崩能量(简称EAS)是平面型VDMOS器件的一个非常重要的参数,其为单次雪崩状态下器件能够消耗的最大能量。在源极和漏极会产生较大电压尖峰的应用环境下,必须要考虑器件的单脉冲雪崩能量。由于平面型VDMOS器件本身在外延层-体区-源区之间存在一个寄生三极管,当器件关断时,源漏间的反向电流流经体区时,会产生压降。若产生的压降大于寄生三极管的开启电压,则此反向电流会因为寄生三极管的放大作用将寄生三极管导通,导...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。