技术编号：12888821
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。利用定向自组装的垂直纳米线晶体管沟道和栅极的图案化本申请为分案申请，其原申请是于2015年5月18日(国际申请日为2013年6月20日)向中国专利局提交的专利申请，申请号为201380060134.6，发明名称为“利用定向自组装的垂直纳米线晶体管沟道和栅极的图案化”。技术领域本发明的实施例总体上涉及微电子器件的晶体管制造，并且更具体地涉及使用定向自组装(DSA)的垂直纳米线晶体管的图案化。背景技术在垂直取向的晶体管中，良好控制的材料层厚度限定了诸如栅极长度(Lg)的功能长度，并且可以有利地定制材...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。