技术编号：12896257
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及抛光设备技术领域，具体而言，涉及一种抛光设备的抛光压力控制方法、抛光设备的抛光压力控制装置和具有所述抛光设备的抛光压力控制装置的抛光设备。背景技术相关技术中的抛光设备，随着抛光垫的使用，抛光垫不同区域的磨损程度会不同，导致抛光垫不同区域的去除速率不一致，最终影响晶圆的质量。通常，在抛光垫达到使用寿命时更换抛光垫，或者，在抛光垫不同的寿命阶段设定不同的抛光压力，即，以压力作用来减轻抛光垫的磨损对晶圆质量的影响。然而，频繁更换抛光垫(实际生产中约为40小时更换一次)，会降低抛光设备的使用效...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。