技术编号：12904921
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种光弹试验装置，特别涉及平面光弹试验中面力模拟地应力的加载。背景技术光测弹性学方法(photoelasticity)，简称光弹性法，是将光学和力学紧密结合进行应力分析的一种试验技术，采用具有双折射性能的透明材料制作出和被研究对象形状几何相似的模型，并使模型受力情况与被研究对象的荷载相似，将受力后的模型置于偏振光场之中，即可以显示所形成的与应力场有关的干涉条纹图像，形成的这些条纹图像与模型内部各点的应力及受力模型的边界有关，根据光弹性原理，便可以求出模型的内部和表面的各点应力方向、...
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