技术编号:12959251
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于成膜技术领域,具体涉及一种基底支持组件、成膜设备和方法。背景技术如图1所示,在蒸镀设备中,可将待成膜基底5设于冷却板9工作面外(由于重力作用下,基底5与工作面间实际有间隙)。而基底5另一侧与有镂空图案(图中未示出)的掩膜版6(Mask)接触,蒸发源产生的蒸镀气体通过镂空图案后在基底5上形成对应图形的膜层。由于掩膜版6本身有波浪状的褶皱,故其部分位置与基底5贴合不佳(存在间隙),从这些位置通过镂空图案的蒸镀气体会扩散而使所成图形不准确,导致条状混色、边缘混色等。为此,现有方式是在冷却板9...
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