技术编号：12966510
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及激光器技术领域，具体涉及碟片激光器增益晶体的冷却装置。背景技术近年来，国内外众多研究机构对高功率碟片激光器做了大量的研究。其在材料加工等领域有广阔的市场前景。与传统的固体激光器相比，碟片激光器具有很多优势：热透镜效应很低，碟片激光亮度很高；对泵浦源亮度要求低、电光转换效率高、成本效益高—尤其是在高平均功率系统中；在内部强度不变的情况下，光束横截面与输出功率成正比；深增益饱和避免了常见于光纤激光器系统中的有害背向反射；模区横截面大，可避免一些由非线性效应所引起的问题。正是由于这些优势...
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