技术编号:13062800
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及硅片清洗领域,具体涉及全自动LED硅片清洗设备。背景技术半导体器件生产中硅片须经严格清洗,目的在于清除硅片表面的污染杂质,这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。需要对硅片表面进行化学清洗和物理清洗,化学清洗主要是利用酸液、碱液,喷洗硅片的表面。如公布号为CN104226626A的中国专利公开了一种硅片的清洗机构,包含第一酸槽、碱槽、快排槽、第一冲洗装置、排水阀、溢流槽、第二冲洗装置以及泵装置。快排槽位于第一酸槽与碱槽之间。第一冲洗装置设于快排槽中。快...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。