技术编号：13094101
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及双面光刻装置以及双面光刻装置中掩膜与工件的对准方法。背景技术以往，对作为光刻对象的工件(电路基板等)的第一面、与该第一面相反侧的第二面分别进行光刻的双面光刻装置已被广泛使用。在这样的双面光刻装置中，在将配置于工件的第一面侧的第一掩膜与配置于工件的第二面侧的第二掩膜进行对准后，再将第一掩膜以及第二掩膜与工件进行对准时，需要在第一掩膜与第二掩膜的位置关系保持不变的情况下，进行第一掩膜以及第二掩膜与工件的对准。像这样，作为使第一掩膜与第二掩膜的位置关系保持不变来进行第一掩膜以及第二掩膜与工件...
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