技术编号：13105430
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及半导体技术领域，特别是涉及一种光罩及检测结构。背景技术在光刻工艺中显影之后产生的残留物，需要被清洗干净。通常可以采用清洗工具(rinse)来进行清洗。但是，如何确保晶圆的旋转(也即是清洗工具的旋转)处于正常的转速范围内，尚不能够被监测到。实用新型内容本实用新型的目的在于提供一种光罩及检测结构，实现对清洗工具旋转的检测。为解决上述技术问题，本实用新型提供一种光罩，包括第一模块区、第二模块区和第三模块区，所述第二模块区围绕所述第一模块区，所述第三模块区围绕所述第二模块区，所述第三模块区...
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