技术编号：13136080
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于纳米压印领域，尤其涉及一种实现均匀压印的纳米压印设备。背景技术纳米压印是一种全新的纳米图形复制方法。在纳米压印中，压印模具就是纳米压印的模板，凸凹结构的尺寸在纳米量级，将具有凸凹纳米结构的模板通过一定的压力压入高分子薄膜内，并保压，通过加温冷却或紫外曝光等方法使纳米结构定型，之后移去模板，再通过其它工艺将纳米结构转移至半导体硅片上。此过程称为纳米压印。纳米压印技术的难点在于提供纳米级压平装置，及最合理的驱动方式及可操作性，目前，传统的纳米压印机普遍存在压力分布不均，适应性差的缺点。...
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