技术编号:13140061
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及液晶显示技术领域,尤其涉及一种阵列基板及其制作方法。背景技术目前TFT-LCD(ThinTilmTransistor-LiquidCrystalDisplay,薄膜晶体管-液晶显示器)一般采用4-Mask(光罩)制程来生产制造,主要将半导体层和第二层金属走线设计为一层曝光制程,节省一层曝光制程,从而降低成本提高产能。然而在采用4-mask制程制作时,在将半导体层和第二金属走线设计为一层曝光的过程中,需要依次沉积半导体层,以及在半导体层上沉积第二金属层,然后进行曝光显影制程,在这个过程中...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。