技术编号:13155686
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种氧化铟锡旋转靶材的烧结方法。背景技术氧化铟锡靶材是磁控溅射镀制氧化铟锡薄膜溅射源,是氧化铟锡薄膜的原材料。氧化铟锡薄膜是一种透明导电薄膜,主要用于制作透明电极,广泛应用于平面显示器、触摸屏等领域。目前应用较多的是氧化铟锡平面靶材,氧化铟锡平面靶材利用率低,在35%以下。氧化铟锡旋转靶材是管状的,由于利用率高,在50-80%之间,已经开始在中低端的氧化铟锡薄膜产品中广泛应用。目前公开的旋转靶材制作相关的文献和专利技术中,大多以成型方法和烧结温度制程为主,少有涉及烧结摆放方式的。目前行...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。