技术编号：1318141
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及适合清洗半导体晶片(例如硅、镓-砷、镓-磷和铟-磷)的清洗剂组合物、与电子器件有关的各种玻璃基底(例如液晶显示器玻璃基底、太阳能电池玻璃基底和晶体基底)的清洗、以及由玻璃或陶瓷制成的需要高清洁度的精加工元件(例如光学玻璃透镜、棱镜、光学纤维、石英晶体振荡器和用于半导体晶片的抛光板)的清洗。本发明还涉及使用该组合物清洗或制造半导体的方法以及由该制造方法制成的半导体晶片。背景技术 通过对硅片或例如镓-砷、镓-磷和铟-磷的化合物半导体晶片进行气相生长、...
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