技术编号:13186834
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明设计光学测量领域,具体为一种高反射物体表面光场偏折术测量系统和方法。背景技术光学三维形貌测量技术以其非接触、精度高、速度快等优点在航空航天、汽车制造业、反向工程、计算机辅助设计、计算机辅助制造等领域得到了广泛应用。结构光投影获取物体三维面形具有快速全场测量,测量精度较高等优点,已被广泛地应用于漫反射表面的三维测量。现在制造领域,针对镜面,近镜面等高反射表面的测量需求也很多,如光学制造领域的光学元件表面,镜面以及抛光磨具等,对这些高反射表面,常采用相位偏折术法进行测量。相位偏折术是根...
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