技术编号:13214783
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明涉及光刻领域,尤其涉及一种六自由度直线电机。背景技术随着光刻技术的进步和半导体工业的快速发展,对于光刻设备有四项基本性能指标:线宽均匀性(CD,CriticalDimensionUniformity)、焦深(Focus)、套刻(Overlay)和产率(Throughput)。为了提高线宽均匀性,工件台或掩模台必须提高水平向精密定位能力;为了提高焦深误差精度,工件台或掩模台必须提高垂向精密定位能力;为了提高光刻机套刻误差精度,工件台或掩模台必须提高其内部模态来提升动态定位特性。此外,...
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