技术编号：13216488
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明涉及平板显示(包括液晶显示器、等离子显示器、有机发光显示器等)及半导体等技术领域，具体而言涉及器件制备过程中光刻胶涂布及回收利用的一种技术。背景技术涂布技术就是在器件制作过程中在待加工基板表面涂覆一层光刻胶，然后通过后续曝光、显影、蚀刻、脱膜等工序制作出需求的电极或绝缘层图形。在平板显示和半导体制造行业，涂布技术是非常关键的工艺技术，其按设备使用方式的不同分类为：旋转涂布、线状涂布和滚动涂布等，其中线状涂布方式被广泛应用于平板显示行业，其主要特点在于：涂布精度高，平坦度好，节拍快，...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。